等离子体沉积-吉祥棋牌官方正版

沉积用等离子体

大气压等离子体纳米涂布及沉积
无需真空环境，在大气压下进行涂布、沉积。

特点
1. 在大气压下，达到真空等离子体的品质。
– in-line process
– 涂布速度快（~ 100mm/s）
– 高均匀涂膜
– 涂膜厚度可调
应用范围
1. 研究/开发/生产试产品
– nano / micro imprint lithography
– ink jet printing ( lcd, oled, led, solar cell )
– mems
– optic device
– fuel cell / solar cell
– tft
– bio mems